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鍍銅工藝主要包括以下幾種:
化學(xué)鍍銅:通過化學(xué)反應(yīng)在基材表面沉積銅層。例如在印制電路板制造中,常使用化學(xué)鍍銅來形成導(dǎo)電通路。
特點(diǎn):不需要外加電流,沉積速度相對較慢,但鍍層均勻性較好。
電鍍銅:將待鍍件作為陰極,銅作為陽極,在直流電的作用下使銅離子在陰極表面還原成銅沉積。
例如在五金件的表面處理中,電鍍銅可以增強(qiáng)其耐腐蝕性和美觀度。
特點(diǎn):沉積速度較快,鍍層厚度易于控制。
電刷鍍銅:采用專用的直流電源設(shè)備,電源的正極接鍍筆,作為刷鍍時的陽極;電源的負(fù)極接工件,作為刷鍍時的陰極。鍍筆通常采用高純度細(xì)石墨塊作陽極材料,石墨塊外面包裹棉花和耐磨的滌棉套。
特點(diǎn):設(shè)備輕便、工藝靈活,可在現(xiàn)場不解體修理大型設(shè)備。
不同的鍍銅工藝在應(yīng)用場景、鍍層性能和成本等方面各有特點(diǎn),需要根據(jù)具體的需求來選擇合適的工藝。
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